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石英砂加工什么設(shè)備好,？高純石英砂生產(chǎn)工藝
石英砂加工什么設(shè)備好,？高純石英砂生產(chǎn)工藝,。高純石英砂一般是指含硅量高于99.9%的石英微粉，主要用于集成電路和石英玻璃行業(yè)，其中高檔產(chǎn)品更廣泛地應(yīng)用于大、中型集成電路,、光纖、激光,、航天和軍事等領(lǐng)域,。高純石英砂為中性無機填料，無結(jié)晶水,，不參與被填充物的化學(xué)反應(yīng),，是一種非常穩(wěn)定的礦物填料，廣泛用于塑料,、橡膠,、陶瓷、涂料等領(lǐng)域,，既可增加產(chǎn)品的多種新功能,，又可節(jié)省大量原材料。
石英砂加工什么設(shè)備好？高純石英砂生產(chǎn)工藝的技術(shù)要求
一是粗選：對各種石英原礦中雜質(zhì)和雜質(zhì)進行明顯的去除,；
破碎：利用專業(yè)破碎機對石英原礦進行破碎,，使原礦粒徑1~20mm；
水淬：將燒毀的石英顆粒放入冷水中迅速冷卻,，以達到去除礦物內(nèi)部氣泡,、紋路和某些包裹雜質(zhì)的目的，從而使礦物開裂,。水淬鍛燒法也稱為熱破碎法,，是指在高溫鍛燒下，石英會發(fā)生晶形轉(zhuǎn)變(α-石英→β-鱗狀石英),，從而使晶體體積增大,，原缺陷程度加重，水淬后晶體體積突然減小,，晶體內(nèi)應(yīng)力迅速增加,，導(dǎo)致晶體在缺陷處破裂。晶粒破裂時,，原石英中的包裹體和裂縫中的雜質(zhì)會暴露在微粒表面,，酸性處理可以很容易去除。
四是粉碎：原料經(jīng)濕式研磨或干式研磨制成粒徑在5~50微米的超細砂,；
五是高梯磁磁選：選用磁場強度在50~15000高斯之間的高梯磁選設(shè)備,，將原料本身及在生產(chǎn)過程中引入的鐵及這些單質(zhì)的化合物等單質(zhì)分離出來；
六,、分級：利用分級裝置將原料按標(biāo)準劃分為多個粒度范圍產(chǎn)品,，后續(xù)處理時，根據(jù)不同的粒度范圍分別處理,；
第七,，焙燒：采用專業(yè)焙燒爐，在300℃~1500℃的條件下焙燒石英原礦顆粒2~5小時,；
八,、水碎：將燒制過的石英顆粒快速放入室內(nèi)溫水中冷卻,，溶解掉焙燒過程中產(chǎn)生的易溶物,，并對水加熱0.5~2小時,，以提高這部分可溶物在水中的溶解度。
九,、浮選：向水碎石英砂細粉中加入浮選劑,，去除比重小于1的雜質(zhì)；
十,、去離子洗滌：用去離子洗滌法去除石英砂表面殘留的浮選劑和雜質(zhì),；
十一、干燥：先將去離子洗滌石英砂風(fēng)干(晾干)等大量水分,，然后用專用干燥設(shè)備干燥,，再加熱至100℃~200℃；
十二,、酸浸：將干燥石英砂加入浸漬槽,，在干燥高溫條件下快速加入酸浸所用的酸(硫酸、鹽酸,、硝酸或氫氟酸),，其酸濃度為5~20%，恒溫攪拌2~24小時,，以除去石英砂細粉中的微量金屬和非金屬雜質(zhì),；酸浸是高純石英砂提純工藝中的重要工序，無論是電光源石英玻璃的制備,，還是用于制備光伏電池及半導(dǎo)體設(shè)備的石英原料,，均應(yīng)采用。酸浸主要是除去溶解在酸中的金屬氧化物和部分硅酸鹽礦物,。經(jīng)過焙燒水淬,、選礦、強磁選等工藝處理后,，大部分氧化物及雜質(zhì)礦物已被去除,，但仍有一些存在于晶界、微裂縫及晶體內(nèi)部,，去除過程中存在一定的困難,，因此采用酸浸時間較長的方法去除這些雜質(zhì)。
十三,、去離子洗滌：將經(jīng)過酸浸的原料用去離子水洗去原料所含的酸液等,，直至呈中性,；
十四,、干燥包裝：原料經(jīng)特殊干燥設(shè)備干燥后，經(jīng)凈化車間真空包裝,，即得產(chǎn)品,。
石英砂凈化
石英砂加工什么設(shè)備好？高純石英砂生產(chǎn)工藝的技術(shù)要求
一是粗選：對各種石英原礦中雜質(zhì)和雜質(zhì)進行明顯的去除,；
破碎：利用專業(yè)破碎機對石英原礦進行破碎,，使原礦粒徑1~20mm；
水淬：將燒毀的石英顆粒放入冷水中迅速冷卻,，以達到去除礦物內(nèi)部氣泡,、紋路和某些包裹雜質(zhì)的目的，從而使礦物開裂,。水淬鍛燒法也稱為熱破碎法,，是指在高溫鍛燒下，石英會發(fā)生晶形轉(zhuǎn)變(α-石英→β-鱗狀石英),，從而使晶體體積增大,，原缺陷程度加重，水淬后晶體體積突然減小,，晶體內(nèi)應(yīng)力迅速增加,，導(dǎo)致晶體在缺陷處破裂。晶粒破裂時,，原石英中的包裹體和裂縫中的雜質(zhì)會暴露在微粒表面,，酸性處理可以很容易去除。
四是粉碎：原料經(jīng)濕式研磨或干式研磨制成粒徑在5~50微米的超細砂,；
五是高梯磁磁選：選用磁場強度在50~15000高斯之間的高梯磁選設(shè)備,，將原料本身及在生產(chǎn)過程中引入的鐵及這些單質(zhì)的化合物等單質(zhì)分離出來；
六,、分級：利用分級裝置將原料按標(biāo)準劃分為多個粒度范圍產(chǎn)品,，后續(xù)處理時，根據(jù)不同的粒度范圍分別處理,；
第七,，焙燒：采用專業(yè)焙燒爐，在300℃~1500℃的條件下焙燒石英原礦顆粒2~5小時,；
八,、水碎：將燒制過的石英顆粒快速放入室內(nèi)溫水中冷卻,，溶解掉焙燒過程中產(chǎn)生的易溶物,，并對水加熱0.5~2小時,，以提高這部分可溶物在水中的溶解度。
九,、浮選：向水碎石英砂細粉中加入浮選劑,，去除比重小于1的雜質(zhì)；
十,、去離子洗滌：用去離子洗滌法去除石英砂表面殘留的浮選劑和雜質(zhì),；
十一、干燥：先將去離子洗滌石英砂風(fēng)干(晾干)等大量水分,，然后用專用干燥設(shè)備干燥,，再加熱至100℃~200℃；
十二,、酸浸：將干燥石英砂加入浸漬槽,，在干燥高溫條件下快速加入酸浸所用的酸(硫酸、鹽酸,、硝酸或氫氟酸),，其酸濃度為5~20%，恒溫攪拌2~24小時,，以除去石英砂細粉中的微量金屬和非金屬雜質(zhì),；酸浸是高純石英砂提純工藝中的重要工序，無論是電光源石英玻璃的制備,，還是用于制備光伏電池及半導(dǎo)體設(shè)備的石英原料,，均應(yīng)采用。酸浸主要是除去溶解在酸中的金屬氧化物和部分硅酸鹽礦物,。經(jīng)過焙燒水淬,、選礦、強磁選等工藝處理后,，大部分氧化物及雜質(zhì)礦物已被去除,，但仍有一些存在于晶界、微裂縫及晶體內(nèi)部,，去除過程中存在一定的困難,，因此采用酸浸時間較長的方法去除這些雜質(zhì)。
十三,、去離子洗滌：將經(jīng)過酸浸的原料用去離子水洗去原料所含的酸液等,，直至呈中性,；
十四,、干燥包裝：原料經(jīng)特殊干燥設(shè)備干燥后，經(jīng)凈化車間真空包裝,，即得產(chǎn)品,。
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